ハフニウムは、高い耐熱性や優れた電気的特性などを有し、半導体、航空・宇宙、原子力などの先端産業で使用される希少金属です。
特に半導体分野では、ハフニウム酸化物などが高誘電率(High-k)材料として先端半導体に用いられており、半導体の微細化、高性能化、省電力化を支える重要な材料となっています。
今後、AIやデータセンターの拡大を背景とした先端半導体需要の増加に加え、航空・宇宙分野などでも需要の拡大が期待されています。
